阵列段
- Cu/Al/ITO 精准控制蚀刻液
- 蚀刻速率 < 0.1 μm/min
- 全局均匀性 > 95%
DISPLAY PANEL
阵列 + 彩膜 + 模组的全流程协同
作为京东方、华星光电、惠科等合作伙伴，艾萨斯的功能性配方化学品深度参与 Array 与 CF 制程，保障高世代线的均匀性与良率。
彩膜段
- 剥离去胶液去除率 > 99.9%
- PI 配方/去除一体化方案
- 彩膜涂布粘度/流平控制
模组段
- 玻璃清洗与粘接预处理
- 导电胶、封装保护液
- 模组段离子/颗粒控制
BENEFITS
导入收益
驻场工程师与模拟评价平台联动，实现高代线从试产到量产的平滑衔接。
<0.1 μm/min
铜蚀刻速率可控
>99.9%
光刻胶去除率
-25%
缺陷密度下降
<50 ppb
金属污染控制
CO-SERVICE
一站式支持
现场应用团队、项目管理与废液回收系统协同，保障 G6+ 高世代线的稳定产能。
• 工艺审核 + 配方共创 + 试验设计
• Array/CF 试产 → 量产线全程陪伴
• 废液综合利用与绿色回收