涂布/曝光模块
支持多种基板尺寸与转速窗口,精准控制膜厚与曝光能量。
- 匀胶机 + 热板组合
- I-Line / DUV 曝光系统
- 在线膜厚监测
围绕 docx 中“涂覆、曝光、显影、蚀刻等全流程模拟能力”的要求,搭建覆盖液配、涂布、曝光、显影、蚀刻、清洗、烘干、检测的闭环平台,实现实验室端的快速验证。
支持多种基板尺寸与转速窗口,精准控制膜厚与曝光能量。
可模拟金属、ITO、玻璃等多种对象,匹配公司蚀刻、剥离配方。
通过 SEM/AFM/光学检测手段,复盘缺陷模式,优化配方。
坚持“快速验证-迭代优化-联合交付”,帮助客户缩短导入周期。
1. 参数窗口指引:针对不同配方输出厚度、温度、pH、速度等建议范围。
2. 缺陷库与根因分析:建立光刻、蚀刻等典型缺陷图谱,定位原料或工艺问题。
3. 客户联合验证:驻场工程师携结果进驻客户线体,完成小批试运行。
覆盖光学玻璃、显示面板、半导体三个主力行业的关键工序,确保产品能顺利导入终端应用。
| 行业 | 模拟项目 | 评价指标 | 典型成果 |
|---|---|---|---|
| 光学玻璃 | 离子交换、抛光清洗 | 应力层深度、表面缺陷 | 输出可视化工艺窗口 |
| 显示面板 | ITO 蚀刻、PI 涂布显影 | 线路完整性、侧壁形貌 | 配方/工艺联合优化报告 |
| 半导体 | 光刻胶剥离、湿法清洗 | 金属残留、颗粒控制 | 客户导入验证记录 |