产品中心

赢在每一度

正胶显影液

正胶显影液

英文名称:Positive Photoresist Developer
纯度等级:SEMI G3
包装规格:20L桶、200L桶、ISO Tank
主要应用:半导体晶圆制造光刻工艺中光刻胶显影

电话:18142546811

详细介绍
前一页: 金属蚀刻液
下一页: 负胶显影液